Známá technologie vytváření vrstev PVD (Physical Vapour Deposition) je založena na odpaření nebo odprášení pevné látky v řízené atmosféře. Podmínky vzniku a vlastností vytvořených vrstev jsou velmi rozmanité, proto se budeme věnovat pouze oblastem jejich nejčastějšího využití. Povlaky vznikají při tlaku mezi 0,1 - 1 Pa ve vakuové komoře, do níž je vpouštěn pracovní plyn, např. argon nebo dusík. Podle způsobu získání kovových iontů rozlišujeme metodu odpaření nízkonapěťovým obloukovým výbojem (obloukové odpařování) nebo metodu odprášení ionty (magnetronové naprašování). Jako praktický příklad zde bude uveden postup povlakování stopkových řezných nástrojů z rychlořezné oceli